JB/T4730.4-2005中关于磁粉检测工艺值得注意的几个问题

　　在JB/T 4730.4-2005《承压设备无损检测》中,关于磁粉检测工艺有四个问题值得注意。下面就这四个问题谈谈笔者的看法。

　　1　对被检工件表面准备有何新要求

　　JB/T 4730.4-2005标准规定:被检工件表面不得有油脂、铁锈、氧化皮或其它粘附磁粉的物质。表面的不规则状态不得影响检测结果的正确性和完整性,否则应做适当的处理。如打磨,则打磨后被检工件的表面粗糙度Ra≤25μm。如果被检工件表面残留有涂层,当涂层厚度均匀且不超过0.05 mm,不影响检测结果时,经合同各方同意,可以带涂层进行磁粉检测。

　　关于涂层是否需要去除问题:ASME SE-709(2001版)规定:“薄的非导电涂层(数量级约为0.02mm～0.05 mm)一般可能不会干扰显示的形成,检测区及附近非导电涂层或覆盖层大于0.05 mm时,必须验证证明对最厚涂层处亦能探测出不连续性”。国内也有资料介绍,当涂层厚度为0.5 mm时,可以发现A-30/100灵敏度试片上的人工缺陷显示。因此当涂层厚度不超过0.05 mm时,可以带涂层进行磁粉检测,但应用触头法时工件和电极接触部分必须清除干净。被检工件表面打磨应根据实际情况,表面粗糙度要求由JB 4730-1994标准中Ra≤12.5μm放宽到Ra≤25μm。为了增加对比度,允许使用反差增强剂。

　　2　对磁痕显示的分类和记录作了哪些规定

　　2.1　参照ASME SE-709,把磁痕显示分为相关

　　显示、非相关显示、伪显示;JB/T 4730-2005第一部分通用要求第3章术语和定义对三种显示作了明确定义,①相关显示:磁粉检测时由于缺陷(裂纹、未熔合、气孔、夹渣等)产生的漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示,一般也叫缺陷显示;②非相关显示:电磁路截面突变以及材料磁导率差异等原因产生的漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示;③伪显示:不是由漏磁场吸附磁粉形成的磁痕显示,也叫假显示。

　　2.2　参照ASME SE-709,规定了非荧光磁粉检测时,工件表面可见光照度≥1000 lx(JB 4730-1994中为500 lx);但当现场采用便携式设备检测,由于条件所限无法满足时,可见光照度可以适当降低,但不得低于500 lx。荧光磁粉检测时,工件表面幅照度≥1000μw/cm2,以及暗处可见光照度≯20lx。磁粉检测的灵敏度很大程度上取决于检测时的光照条件,这与人眼的视觉特性有关,在强光条件下人眼对光强度的微小差别不敏感,而对颜色和对比度的差别的辨别能力很高。而在暗光下,人的眼睛辨别颜色和对比度的本领很差,却能看出微弱的发光体或光源。因此非荧光检测应保证工件被检面处可见光照度不小于1000 lx,荧光检测时应保证暗室内可见光照度不大于20 lx。

　　2.3　由于锅炉、压力容器、压力管道的表面缺陷危害较大,因此要求较严格,参照JIS G0565中的要求,两条或两条以上磁痕在同一直线上且间距≤2mm时,按一条磁痕处理,其长度为两条磁痕之和加间距。