真空镀膜机的拨动惯性自转机构

　　光学薄膜，如各种增透膜、干涉滤光片、偏振膜、分光膜和近年来发展起来的激光膜，已成为各种光学仪器中不可缺少的部件。同时对光学膜的质量提出越来越高的要求。膜层的均匀性就是一个重要方面。从理论上讲为了获得均匀的光学薄膜要求蒸发源为一点源，而镀膜基体应当位于以点蒸发源为中心的球面上。然而蒸发源实际上有一定长度，基体又位于一个平面上。因此蒸发后得不到理想均匀的膜层。实践证明使基体做公转和自转是获得均匀膜层较理想的办法。

　　由于钟罩内基体公转和自转机构工作环境比较恶劣(如较长时间的高温烘烤和为避免污染的无润滑旋转等)。曾使用过的齿轮行星自转机构已淘汰。目前常见的是摩擦行星自转机构(见图1).

　　由马达带动主动轮传动轴，主动摩擦轮带动从动公转摩擦盘转动。在公转摩擦盘上吊装有四个或六个能摆动的自转机构。自转机构靠自身重量使自转行星摩擦轮搭靠在固定摩擦上。搭靠角度可以自由调整，以改变摩擦力的大小。当公转摩擦盘转动时使自转行星摩擦轮转动。被镀基体即安装在行星轮上。由于这种结构仍然有不少缺点，因此在实践中我们在真空镀膜机上，采用一种新结构(取名拨动惯性自转机构)，就是一个有一定质量的能自由转动的轮，在一个力的作用下使之维持一定时间的转动。见图2.

　　由主动齿轮带动从动大齿轮盘旋转，内外圈自转机构(共16组)安装在大齿盘上、与大齿轮盘同时转动—公转。当自转机构转到拨动弹簧片处、即被拨动一次。由惯性轮带动而使自转机构自转。在公转一周过程中也不会停止。这样只要公转不停，自转也将继续下去。因而使基体得到均匀的薄膜。

　　这种结构我们已运用在GDM-600B型真空镀膜机上。其具体结构见图3.

　　整个自转机构都安装在大齿轮盘上，原来机构无变动。16个自转机构分两层安置。为保证自转转动内外拨动弹簧片可用两个或更多，即自转机构公转一周被拨动二次或更多次。被镀基体安装在自转机构的下端，面向增竭。

　　由于在公转盘上安装16套自转机构，因此重量大大增加。为减少传动马达的负载并减少齿轮的磨损，特设计了卸荷结构。卸荷机构吊装在固定横梁上，调整压力弹簧将自装机构吊起使负荷减轻。调整时应注意吊杆和轴承的同心度。

　　自转机构的转轴装于两个向心轴承上，轴承内外环都采用动配合。轴向窜动在1 mm左右。这样在烘烤温度200~300°C时如轴承环不出故障，自转机构能转动自如。