依据化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）加工玻璃光学元件的原理，通过对抛光运动机理的理论分析，提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响，并设计了新的工艺流程．通过工艺试验，完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工，获得了表面质量N（0．2，Rq〈0．3nm的玻璃光学元件．

本文所述的超光滑表面无损检测轮廓仪，无需标准参考面；利用双焦干涉作非接触无损检测；利用干涉及电子共模抑制技术可有效地抑制各类噪音；计算机控制测量，即时给出表面粗糙度参数，与ＷＹＫＯ比对，结果吻合。仪器特别适合于均方根值Ｒｑ为纳米及亚纳米量级的软质金属材料及膜层表面测试。其横向分辨率为１μｍ，纵向分辨率为０．１ｎｍ。

论述了目前超光滑表面清洗的基本理论,常用清洗工艺及清洗方法,最后对清洗技术的发展前景进行了展望。

世界各国十分重视超光滑表面光学元件的加工与检测技术的研究.本文阐述了超光滑表面在诸多科技领域的应用,并结合超环面光学元件检测的实例,研究了同步辐射超光滑光学元件的检测技术,其中包括大曲率半径、面形误差和表面粗糙度的检测.

表面粗糙度是表征光学元件表面质量的一个重要指标,这使得人们不断致力于改进表面粗糙度的测量技术,以提高其测量精度.然而很多实验表明,在对超光滑表面粗糙度进行测量时,对于同一个表面,不同类型的表面轮廓仪通常会给出不同的结果,这使得测量结果之间的可比性成为问题.针对这种情况,本文运用线性系统理论方法,分析了表面轮廓仪的带宽对表面粗糙度测量的影响,并用离散傅里叶变换方法计算了表面粗糙度测量值随表面轮廓仪带宽的变化.结果表明,表面轮廓仪的带宽对表面粗糙度测量有着重要影响,轮廓仪的带宽越宽,则给出的测量值越大,也越接近真实值.因此对两种不同类型的轮廓仪测得的结果一般不能直接进行比较,除非两者具有相同的带宽.

超光滑表面抛光技术是超精密加工体系的一个重要组成部分,超光滑表面在国防和民用等领域都有着广泛的应用.文中介绍了超光滑表面的物理特征和应用,并根据抛光过程中工件与抛光盘之间的接触状态,将各种抛光方法分为直接接触、准接触和非接触3类,对每一种抛光方法作了总体的描述,详细地介绍了近年来发展的激光抛光技术和化学机械抛光技术及其超光滑表面抛光的加工机理,介绍了超光滑表面的测量和评价方法.

所述的光学轮廓仪是利用双焦透镜产生的偏振光束经被检面反射后形成了一共路干涉体系，因此该干涉体系可对超光滑表面做非接触无损检测而无需标准参考面；同时，利用双通道电子共模抑制技术可有效地抑制系统的各类噪声；计算机控制测量，即时给出表面粗糙度参数，测量结果与计量用ＷＹＫＯ轮廓仪比对，结果吻合。仪器特别适合于均方程极值Ｒｑ为纳米及亚纳米量级的表面的测试，尤其是软质金属材料及膜层表面。其横向分辨率为１μｍ，纵向分辨率为０．１ｎｍ。

本文设计并研制了一套可控制抛光作用力的精密抛光装置，该装置具有抛光作用力微调功能及显示功能，用该装置对Ｚｅｒｏｄｕｒ陶瓷玻璃进行控制力抛光实验，稳定地获得了具有纳米级及亚纳米级表面粗糙度的超光滑表面，将该装置与机械化学抛光方法结合使用，可高效地加工出有面无损伤的超光滑基片。

利用干涉共模抑制和光电信号共模抑制技术，辅以二维扫描平台及计算机控制与数据处理技术，可以高精度地无损测量超光滑表面三维微观轮廓。本文论述了上述测量系统的原理，结构和误差分析，并了关于三维微观轮廓的定义问题。

磁流变抛光技术(MRF)是利用磁流变抛光液在磁场中流变性进行抛光的一种超精密加工方法。介绍了利用磁流变抛光技术抛光工件的过程,详细阐述了磁流变抛光技术国内外的研究现状,最后提出了下一步应该重点研究设计磁流变抛光设备和开展相关工艺参数实验。