齿轮是现代机械传动系统中运用最为广泛的传动件,齿轮齿廓的精度和表面质量对齿轮传动的精度、平稳性、可靠性和噪声影响巨大。齿轮的加工过程通常要经历初切齿—热处理—初磨—精磨等工艺过程,然而,经磨削加工后齿廓仍然存在磨削横纹、表面粗糙度难以进一步降低、表面粗糙度沿齿廓分布不均匀等问题。目前,齿轮经磨削后进行齿廓抛光是解决上述问题的有效途径之一。为此,将现有主要齿轮齿廓抛光方法归纳为齿廓电化学机械抛光、齿廓磨料流抛光、齿廓磁流变抛光以及齿廓剪切增稠抛光等4大类。详细阐述了当前主要齿轮齿廓抛光方法的加工原理;列举了各种加工方法的加工实例;从加工的适应范围、加工效率、抛光后的齿廓表面粗糙度的改善率以及对加工设备的要求等方面归纳了各个加工方法的技术优势和存在的问题。结果表明,使用其...

在介绍了磁流变抛光的基本原理基础上,对磁流变抛光的两种不同结构的装置进行了优缺点比较,从影响抛光效率和最终表面精度考虑,确定了最终的装置设计方案,给出了抛光装置的关键部件的设计,并用磁流变抛光加工了直径83mm的BK9光学平面玻璃工件,获得了Ra0.702nm的表面精度。

阐述了磁流变抛光原理,依据Preston方程分析了影响磁流变抛光效果的因素,根据实际加工的工件特点,对Preston方程进行了修正;在自制的磁流变抛光实验机上进行抛光加工试验,结果表明,采用修正的磁流变抛光材料去除方程,可以有效控制工件的抛光质量、提高抛光效率。

系统研究了确定性磁流变抛光高精度光学表面的关键技术及应用。介绍了自行研制的KDMRF-1000F磁流变抛光机床及其基本工作原理，给出了抛光过程中建立材料去除模型的两种方法和如何根据驻留时间完成路经规划的过程。采用KDMRF-1000F磁流变抛光机床和KDMRW-1水基磁流变抛光液对直径80mm的K4材料平面反射镜和直径145mm的K9材料球面反射镜进行修形实验。实验显示，样件一面形收敛到PV值55．3nm，RMS值5．5nm；样件二面形收敛到PV值40．5nm，RMS值5nm；样件的表面粗糙度均有显著改善。结果表明，磁流变修形技术具有高精度、高效率、高表面质量的特点。

介绍了国内外光学器件超精密加工的各种先进方法,重点阐述了磁流变抛光技术及其抛光机理和关键技术.并对光学超精密加工技术的发展进行了展望.

高陡度非球面光学元件因形状特点，其毛坯成形、研磨和抛光等加工技术难度远高于传统的球面元件。其加工过程中根据不同材料和不同加工阶段分别应用化学气相沉积（CVD）精密复制方法、单点金刚石车削（DPT）、金刚石磨削、确定性微研磨（DMG）、磁流变抛光（MRF）和射流抛光等先进制造技术。分析高陡度非球面光学元件的形状特征，重点讨论高陡度非球面光学元件的加工技术及关键工艺，针对凹面抛光加工等技术难点做出工艺分析。

本文对磁流变抛光(magnetorheological finishing)过程中所采用的梯度磁场，以及磁流变抛光液(MRP fluid)中的磁性颗粒在磁场中的受力情况进行了分析，进而证明了该磁场满足磁流变抛光的要求。最后以实验对其进行了验证。

磁流变液是一种重要的智能材料。介绍了磁流变液的组成和特性,综述了目前磁流变液的国内外研究现状,说明了磁流变液在阻尼器、离合器和抛光方便的应用优势,最后对磁流变液未来的前景作了展望。

利用ANSYS的Emag或Multiphysics模块中的磁场分析功能,借助ANSYS的参数化设计语言(APDL),对磁流变抛光加工技术中的磁场进行仿真研究。仿真结果表明,在线管层数为3时,磁场性能最优,线管层数的不同,导致某一层数对应的PATH曲线存在较大的差异;对指定的PATH上磁通密度值曲线进行分析,得到磁流变液所受磁场力足以克服其竖直方向所受向心力与其自身重力之和,从而吸起变液,实现自身的传输循环并对零件进行加工,从而验证仿真的合理性。

为了充分掌握磁流变抛光中磁场强度、浸入深度、抛光轮转速、磁流变液水分含量等工艺参数对抛光结果的影响规律,以期提高元件的面形精度和表面的质量,在研究了磁流变抛光材料的去除数学模型的基础上,结合实验室的PKC100-P1型抛光设备,对上述的关键工艺参数分别进行了研究,设置了一系列的实验参数,进行了详细的实验探索,分析了单因素条件下材料的去除量以及元件表面质量同关键工艺参数的内在联系,得出了相应影响关系曲线。从关系曲线表明:工艺参数对抛光斑的去除效率以及被加工元件表面质量存在着明显的影响规律,掌握这些影响关系就能用于分析和优化磁流变加工的结果,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障,同时实验的结果也很好地验证了磁流变抛光材料去除理论的正确性。