SiCp/al复合材料两相性能差异大,研磨缺陷多,通过表面微弧氧化,生成硬脆的陶瓷氧化膜,建立两相延性耦合去除的研磨条件,故基于ABAQUS有限元仿真软件,建立单磨粒研磨SiCp/Al复合材料微弧氧化膜的三维模型并进行仿真实验,得到了陶瓷膜在材料去除过程中的表面应力变化规律,通过改变研磨加工工艺参数,得到不同工艺参数与切削力的关系,仿真结果表明当其他条件一定时,研磨速度越快,磨粒切削力越小;研磨压力越大,磨粒切削力越大;磨粒越大,磨粒切削力越大。

固着磨料抛物面研磨是一种新型的抛物面加工方法,文中从单个磨粒的角度出发,讨论了研磨工艺参数对材料去除率和表面粗糙度的影响,建立了理论预测模型,然后利用计算机辅助软件对不同硬度工件材料的材料去除率和表面粗糙度进行了数值模拟仿真,最后用实验验证了模型的正确性,并得出结论理论预测模型仅能预测材料去除率和表面粗糙度的变化趋势,并不能代替实验得出具体的实验数值,即固着磨料抛物面研磨的材料去除率与主轴转速、研磨压力的5/4次方成正比,与磨粒浓度的1/4次方成反比;表面粗糙度随磨粒尺寸和研磨压力的增加而增加,随磨粒浓度的增加而减小。

分析了计算机控制光学表面成形法、计算机控制应力盘抛光、磁流变抛光制造光学非球面元件的几项先进技术,探讨了光学元件的高速、高效加工,提出了高陡度光学非球面的固着磨料研磨加工。

本文介绍了游标卡尺修复的基本方法,并在总结前人经验的基础上,研制出了三用游标卡尺自动研磨机.该机保证了修复卡尺的质量,减轻了工人的劳动强度.

加工平行平面锗窗片,采用双面研磨法修改平行度,用吸附方法粘结成盘,固着磨料抛光模粗抛,沥青抛光模精抛,解决了批量生产中等精度(平行度等于1)锗窗片的加工工艺.该工艺也适用于其他晶体材料的平面加工.

分析了大口径(1500 mm)球面阀芯整体式研具机械研磨的缺陷,不能满足球阀硬密封零泄漏而实现互换性,加工效率低;提出采用小片研具旋转研磨,并组成行星轮系研具片组,按一定速度、轨迹运动,来覆盖整个球面密封带的方法实现球面研磨;针对粗、精加工,提出采用球面上超声振动/脉冲电解加工/机械研磨复合加工,分析其加工机理得出能有效提高加工效率,提高尺寸精度,降低表面粗糙度数值;在空间结构布局上,设计出了满足3种加工条件的新机构;为高精度大球面的加工,提供了工艺方法及机构。

碳化硅(SiC)单晶片属于难加工材料,在使用之前必须要进行研磨与抛光。材料去除率(Material removal rate,MRR)是衡量SiC单晶片研磨与抛光效率的重要因素。针对传统研磨与抛光过程中考虑磨粒摩擦磨损时建立的材料去除率公式对材料去除的不足,考虑SiC单晶片研磨时磨粒挤压嵌入阶段的材料去除,建立了新型的材料去除率公式。根据SiC单晶片、磨粒与研磨盘之间的接触状态,推导出了包含嵌入阶段和摩擦磨损阶段材料去除的新型MRR数学模型;结合材料的物理特性(如硬度与弹性模量等),进行研磨实验。实验结果与模型预测结果表明,新型材料去除率公式的预测结果更接近实际情况。

水轮发电机镜板的平面度、平行度、光洁度要求高且工件尺寸大，难以用平面磨床进行加工。文中介绍了运用立车借助专用工具并选用合适的介质加工水轮发电机镜板的工艺技术。主要从立车的选择、机床要求、专用工具的设计和制作以及研磨剂、抛光膏、清洗剂的选择等方面介绍立车加工镜板的工艺技术。

摆线齿轮作为机器人用精密摆线减速器的核心零部件,其齿面的表面粗糙度要求达到Ra0.4μm,甚至更高,常规的磨削加工很难稳定地满足这一技术要求。根据摆线齿轮外啮合原理,研制了一种摆线齿轮齿面研磨设备,实现了摆线齿轮齿面的快速研磨加工。通过加工对比实验,证明了使用该研磨设备可显著提高摆线齿轮齿面的表面粗糙度,满足精密摆线减速器的要求,并可在一定程度上延长摆线齿轮的使用寿命,降低摆线齿轮运动时产生的噪声。

液压弹性进给驱动是利用弹性波纹管作为驱动元件,当高压油液被引入波纹管内时将引起其线性伸长并对支架的垂臂产生一推力,该力将进一步引起水平弹性臂变形而引起研磨头位移.在弹性范围内变形位移与工作压力成正比.因而控制压力的波形即可得到所需要的研磨头的运动轨迹.压力波形由一压力控制阀实现.本文对研磨头位置精度及由此引起的非圆零件表面加工质量有重要影响的动态特性作了理论分析,并设计实验验证了液压弹性进给装置的性能,此装置在研磨头与非圆零件外轮廓接触时对磨头施加一恒定的力以模拟研磨力.实验结果证明进给驱动的刚度足够大,能够保持研磨位置精度.