提出了一种新的辩向技术，即在传统的用硬件实现对整周期信号进行辩向的基础上，采用软件的方法，对转动不超过一周期的信号进行辩向，以实现对计量光栅相对移动量的整周期和不足一周期的数的精确计数。

本文比较了异或门鉴相与双稳定鉴相的差异，指出采用异或门鉴相原理在检测计量光栅刻划误差中的优势，介绍了在实际工作中得到验证的情况。

本文对计量光栅制造工艺中，易引起均匀性误差的主要因素进行了分析讨论，并提出了相应控制措施。

研究了一种以计量光栅作为计量标准器的二维精密工作台,以实现表面轮廓测量中的X-Y方向的精确定位.重点介绍了光栅信号处理的硬件及软件细分技术,及工作台闭环控制系统的流程,分析了影响工作台定位精度和速度的因素.系统实现了高速度、高精度和大行程测量的要求.

光栅安装或应用过程中光栅传感器指示光栅、标尺光栅相互位置发生改变,导致莫尔条纹发生畸变,直接影响着测量精度和后续处理系统的复杂程度。本文采用傅里叶频谱分析方法,建立包含指示光栅、标尺光栅位置姿态参数的光场输出模型,给出了两栅不平行时输出光场的数学表达式,对主要影响因子进行了较详细的分析,并在Matlab中进行了仿真,给出了不同安装偏角下的莫尔条纹误差值及变化趋势,讨论了接收传感器的结构尺寸对测量结果的影响,得出了与莫尔条纹同尺度的接收系统有最小的测量误差,其结果对光栅副的精度设计和结构设计有较好的指导性。

针对ＪＤＹ－４型测长仪的边界区域产生的一种未定粗大误差进行实验研究，作出误差分布曲线，找到产生误差的原因，提出两种解决方案。

计量光栅作为一种重要的传感器件,广泛应用于工业生产的诸多领域.系统介绍了计量光栅的种类,重点介绍了国内外光栅制造的主要方法、光栅复制工艺以及衡量光栅质量的基本指标和检测方法.

根据光栅的透射特性和曝光及显影机理,对曝光量以及计量光栅线条的黑白比和其均匀性之间的内在关系进行了分析,从理论上给出了曝光量对线条黑白比以及线条黑白比和曝光量对计量光栅均匀性的影响,为提高计量光栅的均匀性给出了理论指导.本文给出了保持曝光量均匀的措施,实验证明,改进后刻制出的计量光栅的均匀性误差较小.

在圆光栅用于角度基准研究中采用莫尔条纹的电载波调制电细分，反一对正交的莫尔条纹信号分成２００００等分，并可实现仪器的动态和静态测量，还能动态检测光学度盘和圆光栅。

讨论了超级干分表的工作原理和优点，描述了超级千分表关键参数及其检测方法。其中，由于百万分表（纳米表，纳米测长仪）的技术难度最大，所以文中侧重讨论它的检测。大量实测数据表明：百万分表的测量重复性（标准偏差）在0．6～1．2nm范围内；在未作任何误差修正的条件下，示值误差=±（30～60）nm;以光波波长作为基准进行误差修正后，示值误差可达±（10～20）nm，细分误差≤±5nm。