针对半导体光源不易均匀散射到一定的角度范围或均匀照射到确定平面上的问题，本文利用非成像光学方法设计了一种基于微透镜阵列的均匀散射透镜。该散射透镜由相同面元的微透镜周期性密排而成，微透镜单元为单曲面，根据不同应用，曲面面形可设计成不同的非球面形式。介绍了凸形、前曲面单片微透镜阵列的设计方法，并结合一些应用举例显示了该设计方法的可行性。最后讨论了凹凸面形、前后曲面微透镜阵列各自的应用场合及优缺点。

功率发光二极管（LED）的发展迫切需要提高取光效率，微透镜阵列的二次光学设计是改善其光强分布的有效途径。建立了一种大功率LED的封装结构，二次光学设计采用了微透镜阵列技术，运用光线追踪法研究了这种封装结构的光学性能。分析结果表明，利用微透镜阵列技术能显著改善LED的光学性能，改变其光束分布，将LED的照度衰减降低12％以上，从而得到更加均匀的照明系统。

<正> 微透镜阵列有许多种重要的应用,其中包括Schack-Hartmann波前传感器、中继器、阵列照明器、耦合器以及集成摄影成像系统。正因为其用途广所以在许多文章中已介绍了许多加工方法。因为阵列是由折射透镜组成,所以基本上分为两组方法。第一组

通常采用的多次掩模光刻和离子束刻蚀制作微透镜阵列的方法不但制作效率低，而且易产生较大的制作误差。提出了一种在硅基底聚合物薄膜上热压制作微透镜阵列的工艺方法，并利用自制的热压印设备进行了热压制作衍射微透镜阵列的试验，讨论了影响压印精度的温度和压力等工艺参数，对压印的衍射微透镜阵列进行了轮廓测试和部分光学性能测试。测试结果表明，压印制作微透镜阵列的复形误差小于10％，衍射效率高于90％，为高效率低成本制作微透镜阵列提供了一种新的方法。

详细介绍了光刻胶热熔法、光敏玻璃热成型法、离子交换法、飞秒激光酸刻蚀法等4种比较实用的制作微透镜阵列的方法,阐述了其原理,分析了各自的优缺点。

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列．本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础、模具设计以及工艺过程．最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５μｍ．

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列．本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础、模具设计以及工艺过程．最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５μｍ．

在光刻热熔成型以及电铸制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列，本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础，模具设计以及工艺过程，最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５ｍ。

采用MMA单体与其聚合物PMMA及掺杂剂的混合溶液，以按需滴定法制备了掺杂若丹明6G的微透镜阵列。并对其焦距一致性、成像效果、表面粗糙度、透射光谱和荧光光谱等光学性能进行了测试。焦距不均匀度不超过1．8％，测定数值和理论值相差不到1．7％。表面热处理后表面粗糙度肋小于0．9nm，光学透过率从近紫外到近红外都在90％以上，可以用于光纤放大器和生物化学传感器。

对以玻璃为基材的微透镜阵列的制作工艺进行了研究,得出了影响微透镜阵列制作的三个主要因素：玻璃组分、腐蚀方法以及抗蚀掩模层材料。并通过实验详细分析了这三者对实验结果的影响。根据分析结果,选择合适的材料和工艺方法,获得了效果较好的玻璃微透镜阵列,为玻璃微透镜阵列的制作提供了依据和方法。