磁流变抛光液是磁流变抛光的"刀具",是磁流变抛光技术的核心之一。简要介绍了磁流变抛光技术的原理与特点,重点对磁流变抛光液的本征研究工作进行梳理和总结。分别对磁流变抛光液中双相颗粒的分散及表征,零磁场及磁场作用下流变行为与模型,颗粒受力以及磁流变抛光液与工件表面的作用机理等方面进行了分析和总结;重点分析了磁流变抛光液在磁场作用下颗粒的受力情况以及与工件表面物理作用和化学作用的耦合机制。提出了研究磁流变抛光液的三个基础性问题,展望了磁流变抛光液的研究趋势并在此基础上提出了研究路线图,为磁流变抛光液的进一步设计、制备及应用提供参考。

磷酸二氢钾（KDP）晶体是一种非常优良的非线性光学晶体材料，在强激光系统中有着重要应用。但其理化性质特殊，加工高表面质量的元件难度很大。目前研究认为磁流变抛光技术能够获得高精度的KDP晶体表面，但是该加工过程带入的表面残留如不清除，会大大降低元件的性能。提出了一种针对磁流变抛光后续的KDP的清洗技术，设计了含水活性清洗液，结合超高频超声作用共同去除KDP表面残留。光学显微镜和白光干涉仪分析表明，该技术较好地去除了表面残留，并且晶体表面粗糙度有所降低。拉曼光谱和激光干涉仪测试表明，清洗前后KDP表面化学结构和面形精度一致。该研究获得了较为满意的结果，说明该方法是一种有应用前景的KDP超精密清洗方法。

以自行设计的电液振动台为例，针对原来存在的系统共振问题进行分析，找出了影响因素，并以有限元方法为辅助手段建立并修正了能反映减振器本身动态特性的有限元模型。在此基础上采用有限元的模态分析方法对模型进行仿真，结合仿真结果提出改造方案，使其达到预想的试验效果。