介绍了自行研制的FLY-I非球面轮廓仪的设计以及测量软件数学模型,其实用精度为1～2 μm.光学元件的抛光精度取决于精磨精度,本实验室现有的LOH高精度铣磨机床经过对第1次精磨后的光学元件面形进行修正,2次精磨后其精磨精度可达到2 μm.研究了这一非球面轮廓仪以配合LOH铣磨机床,测量得到1次精磨后的面形误差数据,经过误差反馈进行2次精磨,以保证光学元件的精磨精度.通过多次实验以及数据处理、分析,证明自行设计、装调的非球面轮廓仪达到了设计的精度要求,可满足实验室,光学加工车间对小型非球面精磨阶段面形的检测要求,即精磨面形误差在2 μm以内,同时也可直接用于中低精度非球面光学元件的最终检测.

对用波差与表面斜率误差评价光学元件面形误差的方法进行了比较和讨论.以具有不同面形精度的光学元件,在不同的数据处理方法下得到的结果为例,说明此两种面形评价方法在数据处理方法不同时在数值上的联系.

高质量的透射光学系统对光学材料的光学均匀性要求非常高,材料局部折射率10-6量级的变化就可能破坏整个系统的性能.详细介绍了三种用于测量光学玻璃光学均匀性的干涉法,研制了一台高精度光学玻璃材料光学均匀性测量仪.实验结果表明:40 mm左右厚的光学玻璃材料的光学均匀性检测精度可达1×10-6.

介绍了超光滑硅柱面反射镜的加工过程、工艺控制及检测方法.给出了由超光滑硅柱面反射镜组成的准直扩束系统的出射波面的检测结果.