大口径光学抛光系统的气动压力控制 作者: 王楷 吕科 石为人 李江波 来源:仪器仪表学报 日期:2019-01-30 人气: 关键词: 抛光磨头 压力控制 气动控制系统 双模态PID 版权信息:站内文章仅供学习与参考,如触及到您的版权信息,请与本站联系。 信息 资料大小 930KB 文件类型 PDF 语言 简体中文 资料等级 ☆☆☆☆☆ 下载次数 简介 为提高大口径光学抛光设备的加工工艺,在具有行星式旋转结构的末端执行器的基础上,提出了一种高精度、高稳定性的气动压力控制系统,解决了整个系统设计中的气动关键技术问题。从整个系统的设计角度分析了执行装置的工作原理和整个气动部分不同参数对控制的影响,以指导压力控制系统的设计。利用压力传感器和比例阀及多组双模态PID控制算法构建了闭环压力控制系统,以实现高精度、高稳定性的抛光盘压力控制。实验结果表明,该气动压力控制系统可以满足大口径抛光系统对压力的设计要求。 进入下载地址列表 标签: PID 点赞 收藏 上一篇 下一篇 相关论文 发表评论 请自觉遵守互联网相关的政策法规,严禁发布色情、暴力、反动的言论。 中立 好评 差评 用户名: 验证码: 匿名? 发表评论 最新评论
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