用拼接法获取大面积衍射光栅
近年来大面积衍射光栅已成为许多大型高技术工程项目的关键元件。它的获取方法也一直是光栅界探求的目标,本文简要回顾衍射光栅研制技术的发展历史,介绍了衍射光栅的发展趋势以及国内外研制大面积衍射光栅的技术现状,说明了拼接光栅的原理、方法以及利用这种方法来获取大面积衍射光栅的诸多优点。目前拼接光棚中各小光栅的衍射波阵面的位相还没有做到完全一致,要做到一致还需做很多工作,但用拼接手段来获取大面积光栅已是一种非
变栅距衍射光栅的原理及应用
变栅距衍射光栅(VLS)在像差校正等方面具有突出优点,采用不同的栅距变化规律的变栅距光栅具有不同的光谱特性,因而在众多的高技术领域获得了广泛应用.本文从VLS的像差校正原理出发,较全面地阐述了VLS在真空紫外和软X射线、高分辨率光电探测器、表面干涉计量以及光纤通讯等领域的应用,并针对其技术特点指出了它的发展趋势.
高精度的光电式衍射光栅刻划机
光栅刻划机被誉为“精密机械之王”,采用高精度的衍射光栅刻划机刻划依然是制作高质量母光栅最重要的手段,因此,对高精度的光电式光栅刻划机进行研究具有重要的现实意义。文中主要阐述了两类光电式刻划机的控制原理,并对其特点进行了比较。
高精度衍射光栅刻划机的最新技术进展
采用高精度的衍射光栅刻划机刻划依然是制作高质量母光栅最重要的手段,因此,跟踪世界光栅刻划机的最新技术进展具有重要的现实意义。文中主要对工件台的双重定位技术和分度运动中的间歇式与连续式的技术融合进行了阐述,并指出了衍射光栅刻划机的发展趋势。
衍射光栅制造技术的发展
衍射光栅已广泛应用于国防、科研和国民经济的许多领域,因此跟踪世界先进的衍射光栅制造技术具有十分重要的意义.文中对衍射光栅制取的两个重要方法-刻划光栅与全息光栅的原理和技术发展进行了阐述,并指出了衍射光栅制造技术的发展趋势.
一种二维光栅干涉仪的研究
本文描述了一种以二维正交反射光栅为计量基准元件,以透射光栅为分光元件的二维光栅干涉仪,从研究光栅表面的光扰动出发,分析了这种干涉仪的原理及所用光栅间的匹配关系,通过实验分析了干涉仪的调整方法及主要误差,实验结果表明:这种新型二维光栅干涉仪在精密线值计量方面有着良好的应用前景。
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