介绍了由浙江大学研制的CQG-II型车间数字干涉仪检测φ3.6 mm×0.5 mm平行平面玻璃的透过波面畸变的情况.最近研制出的干涉仪测量的最大口径为φ60 mm,采用移相式条纹扫描数字化处理,基于WINDOWS操作系统实现实时检测,以优于λ/30的精度计算出被检件的波面误差.工厂生产检测表明:在上述仪器上增加一个4倍口径的放大系统,可以使通光口径φ3.1 mm的工件达到4200个采样点,仪器的透射测量标准干涉腔误差PV≤0.028λ,仪器隔日多次测量重复性PV≤0.03λ.该仪器已经正常投入使用,生产的用于光学信息产品的微型光学件已为日本先锋公司(PIONEER)复检通过,成为工厂批量生产过程质量控制(QC)的重要手段.

利用电场作用操控液滴面形获得非球面液滴透镜,并实时检测其光学性能,利用紫外光固化技术使液滴透镜固化得到固体非球面透镜.实验测量了液滴透镜的面形并经过图像处理提取面形轮廓,经多项式拟合得出液滴透镜的面形表达式.比较了不同强度电场作用下的液滴透镜面形,计算了主曲率随电场的变化规律,讨论了液滴透镜在电场中的变形机制;根据透镜面形表达式,采用光线追迹法得出了液滴透镜的焦距随电场的变化规律,结合ZEMAX软件计算了3550V时液滴透镜的最大波像差为0.32个波长,Strehl Ratio为0.74,及光学传递函数等参数,计算了所制作的非球面透镜的像差,为低像差非球面透镜的研制提供了依据.

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列．本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础、模具设计以及工艺过程．最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５μｍ．

在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列．本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础、模具设计以及工艺过程．最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５μｍ．

在光刻热熔成型以及电铸制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的ＰＭＭＡ微透镜阵列，本文介绍了静态铸塑的聚合反应理论基础，模具设计以及工艺过程，最后对微透镜阵列的复制精度进行分析，结果表明复制精度优于０．５ｍ。

以发展微光学元件制作新方法为目标，提出利用误差扩散编码方法设计灰阶编码掩模制作微光学元件。此方法同其他编码方法相比，具有量化效果好、衍射效率高、制作文件小、计算速度快、通用性好等优点。用此方法对制作微透镜的掩模进行了设计，利用预校正法和边缘增强法相结合的方法对掩模进行了优化，并对曝光、显影过程进行了模拟，得到了满意的结果。

通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内PAC相对浓度与光刻胶厚度、烘培温度和烘培时间之间的函数关系.设计了求解光刻胶激活能E0和Arrhenius系数Ar的实验方案,并以AZ50XT正型紫外光刻胶为例开展了实验研究.结果表明,对不同厚度的光刻胶,可以通过调整烘培温度或烘培时间达到所需要的PAC浓度.