机刻光栅复合基底对薄膜内应力的影响研究
机械刻划制备大尺寸中阶梯衍射光栅是亚微米级的成槽挤压过程,在薄膜成槽变形过程中应力的产生与分布会直接影响槽形质量。受限于实际加工及检测手段,无法对薄膜内应力进行有效研究与计算。通过建立无基底纯铝膜模型、仅存玻璃基底铝薄膜模型与具有玻璃-铬复合基底的真实铝薄膜等三种模型,采用有限元模拟压痕试验分析方法,对比分析受压区域应力分布情况,总结受压薄膜内应力分布规律。实验研究表明",三明治"式复合基底有助于薄膜内竖直方向内部应力的分布优化。此研究创新了基底效应与薄膜内应力相互影响关系的研究方法,同时为机刻光栅制备工艺提供借鉴指导。
努森压缩机的研究进展
努森压缩机是一种以微/纳尺度下的热流逸效应为工作原理的元器件,仅由一组微通道和一个连接通道组成,其结构简单、无运动部件、可利用低品位热能。讨论了努森压缩机的结构特点,总结了近期国内外关于努森压缩机的升压能力、流量、效率等方面的研究概况与进展。对现有的几种努森压缩机微通道材料进行了对比分析,并概览了目前努森压缩机的一些实际及潜在的应用领域。最后,根据努森压缩机的特点以及现有研究的不足,探讨了未来努森压缩机的研发趋势。
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