在λ＝２８．５ｎｍ波长处，我们选择了一种新的多层膜材料对Ｃ／ＡＩ。正入射Ａ／ＡＩ多层膜在１５．０ｎｍ附近有很低的二级衍射峰。磁控溅射法制备的Ｃ／ＡＩ多层膜样品，用Ｘ射线小角衍射法对其结构进行了测试，并测得Ｃ／ＡＩ软Ｘ射红多层膜的正入以射率２２％±４％。

分析了四分之一波长膜堆和金属介质增强激光反射膜的吸收，计算和测量了连续波高功率激光辐照下光学元件的热变形．对理论计算和实测结果进行了比较。

介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez（KB）显微镜的光学元件——X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料，膜对数为20，采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计，用磁控溅射的方法在si基片上完成了W／B4CX射线超反射镜的制备。采用高分辨率X射线衍射仪（8keV）测量了X射线超反射镜的反射特性。制备的X射线超反射镜在掠入射角分别为1．052°和1．143°处，反射角度带宽为0．3°，反射率达到20％，可满足KB型显微镜的要求。

多层膜光栅是集多层膜的高反射率与光栅的高光谱分辨于一身的新型光学元件,它的出现使得在极紫外/软X射线（EUV/SXR）波段采用非掠入射、高光谱分辨率的分光元件成为可能。对多层膜光栅的衍射特性进行了分析,这些衍射特性使多层膜光栅能够作为核心部件,实现很多新颖的EUV/SXR光谱仪器,如窄带X-UV单色仪与多色仪。近年来,多层膜光栅的制备领域不断地出现新的思想与方法,同时多层膜光栅的实际应用也不断增多。多层膜光栅作为一种重要的光学元件,在天文学、物理学和材料科学等领域具有广泛的用途。介绍了多层膜光栅在众多研究领域中的应用。

采用磁控溅射法在200℃Si（100）基体上交替沉积WSx和类金刚石碳膜（DLC）制备不同调制比的DLC／WSx多层膜（周期为10nm）。利用扫描电镜（SEM）、能谱仪（EDS）、X射线衍射仪（XRD）、X射线光电子谱（XPS）等手段分析调制比对多层膜成分、微观结构及界面的影响。利用薄膜应力测试仪、纳米压痕仪、涂层附着力划痕仪和球盘式摩擦磨损试验机等测试多层膜的力学性能及大气中的摩擦磨损性能。结果表明：DLC／WSx多层膜结构致密而平整，界面强化效应明显，膜中WSx均为非晶结构。随着调制比增大，多层膜的n（S）/n（W）由0．77增大至1．08，硬度先降低后升高，膜内压应力逐渐减小，结合力先增大后减小，摩擦因数由0．307降至0.171，磨损率逐渐上升。调制比为1：39的多层膜性能最优，硬度可达11.4GPa，磨损率低至1.17×10^15m3N^-1m^-1，显著优于纯WSx薄膜的。