针对自由曲面无固定解析式的特点，根据感光材料的光化学作用原理，以及曝光能量与曝光深度的制约关系，提出采用变剂量曝光的光刻方法制作自由曲面光学微器件。从光传播理论出发；分析了曝光过程光刻胶中光能量分布规律和曝光深度随曝光能量的变化关系，建立了光分布规律的数学模型，并应用计算机软件对模型进行仿真。结果表明：光能量在胶膜内呈规律性分布，在能量一定的情况下曝光深度随时间规律性增加，并逐渐达到饱和。同时，应用长春理工大学BOL500型复合坐标激光直写系统，选用美国Futurrex62A光刻胶、波长412nmHe．Ge气体激光器、5‰NaOH显影液进行曝光及显影实验，所得实验数据与仿真结果吻合。

介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺.对微夹持器制作中的关键工艺进行分析,重点分析ICP蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响,总结导致器件失效的原因,探讨了减少失效的方法.加工过程中采用分步加工的办法控制蚀刻时间,成功的释放了宽6 μm,厚60 μm,等效长度达5 470 μm的悬臂梁型微夹持臂.研制出一种良好性能的具有S形柔性结构夹持臂的梳状静电致动微夹持器.