相位去包裹是移相干涉技术中关键的组成部分。一些去包裹算法在处理具有较多无效成像点的干涉图时，会在处理结果中引入较大的算法误差。提出了通过对去包裹位相进行二次校正的方法，实现去包裹位相算法误差的有效消除。文中通过基于DCT变换的最小二乘去包裹算法为例进行了说明，并通过一光学平晶表面的处理结果对方法进行了验证。

光学件波面测量在光学加工业中有着大量的需求,近年来相关测量技术发展非常迅速,其中移相技术是较典型的代表,发展日趋成熟并得到了广泛应用.以PG-15型平面干涉仪为硬件基础,采用移相技术,解决了其中移相值标定、相位解调、误差处理中的难点,研制了数字波面干涉仪.对干涉仪中的这几个关键技术问题进行了讨论,并给出了相应的解决方法.

相位扫描干涉度量术的广泛应用推动了去包裹算法的发展。在多种算法中，用于数字光学轮廓仪的相位去包裹算法必须具有较高的普遍适用性，而且必须兼顾健壮性与效率。本文对传统算法和最小二乘算法这两种典型去包裹算法进行了比较研究，并在自行研制的为我学轮廓仪上进行了验证。