介绍了一种用于测量软X线的掠入射平场谱仪，依据变栅距刻线光栅的光路函数，计算了曲率半径为5649mm的光栅各点的间距，并推导和计算了入射光源为点光源时在聚焦平面上形成的聚焦点的分布，验证了先前文献中给出的结论．进一步计算了当改变入射距离为155mim时所形成的像散，理论上验证了缩短入射距离后谱仪的可用性．

针对日前电子柱测微仪存在的显示驱动电路复杂问题，以C8051F005单片机为核心，采用VHDL语言在QuartusII开发环境下利用CPLD设计了三色LED光柱驱动逻辑电路，实现了对被测件的测量与数字显示。该测微仪由激励信号发生电路、小信号处理、相敏检波、CPLD光柱驱动、数码管显示及键盘电路、通信模块等组成。整个设计简化了电路，经多次实验表明，提高了稳定性和检测效率，满足精密机械零件的尺寸测量精度要求，接口丰富，具有可扩展性，在精密零件测量领域中有较好的应用价值。

为了缩短掠入射XUV平场谱仪尺寸以方便其使用．利用建立的光路追踪程序优化研究了当入射距离缩短为155mm，聚焦面仍满足平面的条件下凹面光栅的各参量对谱线成像的影响。计算表明，对于曲率半径为5649mm、光栅标称间距为1／1200mm的凹面光栅，当入射距离为155mm，入射角为87．5°，聚焦参量为-21／R，彗差参量为4．655×10^2／R^2时，可以在12～40nm波段内得到优化的成像效果。