近年来随着高新技术的迅猛发展,激光技术和光化学也随之大量应用到先进材料中,为适应这种发展需要,开发感可见光和近红外光的光敏反应体系已成为十分迫切的研究课题[1,2].方酸类染料是一类重要的功能性染料,广泛地应用于静电复印、太阳能电池和光记录材料[3].方酸染料具有独特的内盐结构,在四元环母核上引入不同芳杂环结构,不仅可使光谱响应范围扩展至600~700 nm;同时它们还具有很强的吸光能力,克分子消光系数可达105cm-1#mol-1#L,因而方酸染料又可成为一类性能优良的可见近红外光光敏剂