设计和制作具有较高波前平面度和结构稳定的干涉曝光系统是研制高质量平面全息光栅的首要条件。对离轴抛物镜/洛埃镜系统、单透镜/洛埃镜系统、球面反射镜/洛埃镜系统和双分离透镜/洛埃镜系统等4种单反射镜干涉曝光系统产生的干涉条纹直线度进行了光线追迹。在干涉场中放置标准光栅,使用于曝光的两束平行光入射到光栅上,从而衍射光相干叠加产生莫尔条纹;并对上述4个系统产生的莫尔条纹做了模拟。利用Zernike多项式对莫尔条纹进行拟合得到干涉曝光系统的波前像差,比较了4个系统的差异。结果表明,采用离轴抛物镜/洛埃镜系统制作中、小口径平面全息光栅是最为合适的。在此基础上,研制了用于制作最大尺寸为110 mm×110 mm,刻线密度〉1 200 l/mm的平面全息光栅的离轴抛物镜/洛埃镜干涉曝光系统,在洛埃镜和离轴抛物镜面形精度为λ/8（λ=632.8 nm）的

##a## 自从激光器问世以来，特别是近几年德频激光器付之实用后，干涉精密测量取得了重大的进展。目前，激光干涉系统已广泛应用于长度、角度、直线度、平行度、平面度、两轴正交性、光洁度等几何量的精密测量，机械加工中工件尺寸的控制和切削参数的测量，精密机床、坐标测量机的校正，集成电路制作中的精密定位，以及振动、速度、加速度、重力、压力、材料线膨胀系数等物理量的精密测定。本文叙述几种新的高精度激光长度测量干涉仪，这些干涉系统当然也可以应用于其它精密测量领域。