在构建旋回流非接触式气爪几何模型和控制方程的前提下,对气爪内部流场特征及影响其吸附性能的关键参数进行数值分析.结果表明：单进气口的气爪,负压中心与气爪的几何中心存在偏移,并且,在回旋流向下运动的同时,负压中心也会随之发生迁移;当气爪的几何参数、工作条件为定值时,存在最适宜的气膜间隙,可使负压值和吸附力达到峰值;双进气口的气爪比单进气口的气爪具备更好的吸附稳定性;在单进气口气爪的气室内增加螺纹式凹槽,可在一定程度上提高吸附稳定性.

基于在旋回流气爪腔体内增设绕流柱的设计方案，采用数值方法分析气室内旋回流的形成、发展过程，进一步明确了气爪内部的流场特征、压力分布规律及其吸附原理。数值计算结果表明：增设绕流柱后，可改善气爪内部和被吸附工件表面的压力分布趋势，增加吸附力，提高吸附稳定性；提高供气量，会导致旋回流的流速增加，强度提高，负压程度和吸附力也相应增大。