采用电子束蒸发法制备了单层TiO2薄膜,控制O2流量从10mL/min以步长10mL/min递增至50mL/min（标况下）。利用ZYGO干涉仪测量基片镀膜前后的面型变化;采用Stoney公式计算出残余应力,分析了不同O2压下残余应力的变化。在本实验条件下,TiO2薄膜的应力随O2的增大,张应力先增大后减小;随O2压继续增大,由张应力逐渐过渡到压应力;O2压过大时,压应力减小。因此,可以通过改变O2压来控制薄膜的应力。应力的变化与薄膜的微观结构密切相关,分析了所有样品的X射线衍射（XRD）谱发现,薄膜结构均为非晶态。