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> 二次莫尔条纹
光栅纳米测量的研究与进展
作者:
马修水
费业泰
陈晓怀
李桂华
权继平
来源:
仪表技术与传感器
日期: 2023-08-13
人气:13
概括分析了光栅纳米测量中双光栅测量系统、炫耀光栅测量系统、基于误差修正技术的纳米光栅测量系统的测量原理及其关键技术,重点讨论了基于二次莫尔条纹原理的纳米光栅测量系统的测量原理。在对上述各测量系统分析研究的基础上,指出光栅纳米测量进一步研究的关键在于:研究基于新型测量原理的光栅纳米测量系统,研制光栅纳米测量系统的精密机械调整机构、光电信号处理和细分技术、误差分离和修正技术等。
关键词:
光栅纳米测量
双光栅测量系统
炫耀光栅
误差修正技术
二次莫尔条纹
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