本文以精密圆刻划机为例，用机械动力学理论分析了误差均匀化效应的原理及作用机制，为机械设计及误差分析提供了理论依据。

柱面涂胶问题、刻划间隙的选取及新型光刻掩模板的研制是柱面图形光学刻划需解决的三大关键问题，本文以这三个问题为中心详细讨论了在圆柱面上光刻图形的方法。