系统研究了确定性磁流变抛光高精度光学表面的关键技术及应用。介绍了自行研制的KDMRF-1000F磁流变抛光机床及其基本工作原理，给出了抛光过程中建立材料去除模型的两种方法和如何根据驻留时间完成路经规划的过程。采用KDMRF-1000F磁流变抛光机床和KDMRW-1水基磁流变抛光液对直径80mm的K4材料平面反射镜和直径145mm的K9材料球面反射镜进行修形实验。实验显示，样件一面形收敛到PV值55．3nm，RMS值5．5nm；样件二面形收敛到PV值40．5nm，RMS值5nm；样件的表面粗糙度均有显著改善。结果表明，磁流变修形技术具有高精度、高效率、高表面质量的特点。