通过研究光刻胶厚度与烘培过程中光敏混合物(PAC)浓度分布的关系,对光刻胶前烘模型进行了修正,得出了光刻胶内PAC相对浓度与光刻胶厚度、烘培温度和烘培时间之间的函数关系.设计了求解光刻胶激活能E0和Arrhenius系数Ar的实验方案,并以AZ50XT正型紫外光刻胶为例开展了实验研究.结果表明,对不同厚度的光刻胶,可以通过调整烘培温度或烘培时间达到所需要的PAC浓度.

提出了一种基于亚波长金属光学谐振腔的纳米聚焦器件。通过利用亚波长金属结构激发表面等离子体波在谐振腔中发生干涉,形成驻波条纹,并被耦合进相邻的锥形微尖结构中,从而在锥形尖端进行聚焦,焦斑的尺寸达100nm。研究表明：通过改变亚波长光学谐振腔的长度,可以对聚焦能量进行连续调制。利用电磁仿真软件FDTD进行了针对性仿真,描绘出该器件的强度分布图,揭示出其内在工作机理,并总结出能量聚焦的规律。