介绍了带宽系列３０～４０ｎｍ的硬矩形化带片的设计和制造方法。采用七半滤系以获 得形化程度较高的通带波形和深度的背景抑制特性（ＯＤ５～ＯＤ６），结合工艺特性和允差模拟分析对膜系进行优化设计。采用光学过正极值法监控膜厚，彩非球面夹具解决膜厚均匀性问题，文中给出了设计和测试结果。