为了提高移相点衍射干涉仪对193nm投影光刻系统的检测精度，本文对其主要测量误差进行了探讨。在简要介绍了193nm移相点衍射干涉仪的基本结构和测量原理之后，总结了可能对测量结果产生影响的各种误差及其产生的原因。通过理论分析和数值模拟的方法分别对参考波前误差、相移误差、探测器非线性误差以及光源波动、环境变化引起的随机误差等进行了具体分析，从而得到各种测量误差的大小、存在形式以及与干涉仪结构参数的依赖关系，并提出了相应的避免或减小误差的方法。