限于常规汞灯谱线法波长定标的局限性，构建了紫外辐射计波长定标装置，研究了紫外辐射计波长定标的物理过程和测量链，并对紫外辐射计中臭氧十二个吸收波长进行了光谱定标，通过对定标影响量的分析和计算，得到定标影响量的测量不确定度和波长定标合成标准不确定度，其中波长定标合成标准不确定度为0．026mm，同时通过光学CAD分析和实验验证紫外辐射计的光谱带宽可以达到1.0nm。应用自行构建的紫外波长定标装置较好地完成了紫外辐射计臭氧吸收谱线的定标工作，满足了臭氧反演所需的波长精度要求和光谱带宽要求。

针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si／SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题，提出了表面离子辅助沉积（IAD）硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率。对厚度为10±0．5μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示：IAD-Si膜层为非结晶结构，能够提供较好的抛光表面，在77-673K的热冲击下膜层稳定性良好。以Si膜的抛光机理为依据，对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试，给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度RMS值优于1／20λ（λ=632．8nm）且表面粗糙度RMS值〈0．5nm的超光滑表面；与改性前相比，反射镜改性层抛光表面在360-1 100nm波段的反射率提高了4．5％以上。

为了获得高质量光学表面的非球面碳化硅（SiC）反射镜，对碳化硅反射镜表面改性技术以及离子束辅助沉积（IBAD）Si改性后的非球面碳化硅反射镜的加工技术进行了研究。介绍了碳化硅反射镜表面改性技术以及本文所采用的离子束辅助沉积（IBAD）Si的改性方法。然后，采用氧化铈（CeO2）、氧化铝（Al2O3）以及二氧化硅（SiO2）等各种抛光液对离子束辅助沉积（IBAD）Si的碳化硅样片进行抛光实验。最后，在上述实验的基础上，采用计算机控制光学表面成型（CCOS）技术对尺寸为650mm×200mm的表面改性离轴非球面碳化硅反射镜进行加工。实验结果表明：CeO2抛光液的抛光效率较高；使用SiO2抛光液抛光后的样片表面质量最好；表面改性离轴非球面碳化硅反射镜加工后的最终检测结果为：实际使用171径内的面形精度（RMS值）为0．016λ（λ=0．6328μm），表面粗糙度...