匀胶显影设备中温湿度控制器（THS）为单元提供温度和湿度适宜的洁净空气，为保证单元内产生的颗粒不污染晶片，在单元中将空气流动设计成DownFlow形式，这样能带走单元腔室中的灰尘颗粒，有利于防止晶片的颗粒污染。由于显影单元的内部结构复杂，无法直接测量单元内部实际工作条件下的气流状态。文中采用数值模拟分析的方法对显影单元内部进行流场仿真分析，根据分析结果对结构进行优化，以达到更理想的腔室内气体流动状态，可以节约修改结构和复杂测试所消耗的时间和成本，缩短设计周期。