运用脉冲激光沉积（PLD）技术在Si（100）基片上沉积了金属Mo薄膜。在激光重复频率2Hz，能量密度5．2J／cm^2，本底真空10^-4Pa的条件下，研究Mo薄膜的结构和表面形貌，讨论了衬底温度对薄膜形貌与结构的影响。原子力显微镜（AFM）图像和X射线小角衍射（XRD）分析表明，薄膜表面平整、光滑，均方根粗糙度小于2nm。沉积温度对Mo薄膜结构和表面形貌影响较大，在373～573K范围内随着温度升高，薄膜粗糙度变小，结晶程度变好。