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灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究

作者: 魏国军 徐兵 陈林森 来源:光学技术 日期: 2022-09-12 人气:5
灰度狭缝扫描制作多台阶光栅的工艺研究
采用灰度狭缝进行矢量化的直写, 使平台沿着垂直狭缝的方向运动,获得了具有台阶结构的光栅槽型,编写了与DXF文件一致的接口直写控制程序.该方法对成像视场要求低,可以制作大面积光栅.以色分离光栅(CSG)为例,用标量衍射理论分析了CSG的衍射效率,讨论了工艺制作误差对衍射效率的影响,并给出了初步的实验结果.
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