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对磁流变抛光技术中磁场的分析

作者: 张峰 余景池 张学军 谭庆昌 来源:仪器仪表学报 日期: 2023-10-19 人气:7
对磁流变抛光技术中磁场的分析
本文对磁流变抛光(magnetorheological finishing)过程中所采用的梯度磁场,以及磁流变抛光液(MRP fluid)中的磁性颗粒在磁场中的受力情况进行了分析,进而证明了该磁场满足磁流变抛光的要求。最后以实验对其进行了验证。
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