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高光谱成像仪的杂散光分析

作者: 王美钦 王忠厚 白加光 来源:红外与激光工程 日期: 2024-11-06 人气:3
高光谱成像仪的杂散光分析
杂光分析是保证高光谱成像仪成像质量的关键技术之一。详细分析了高光谱成像仪光学系统的杂散光,设计了R—C前置镜的遮光罩和挡光环,并用Tracepro软件对高光谱成像仪光学系统进行了光机建模,分析了系统的一次、二次散射面,根据重要杂散光路径设置重点采用,计算出0.5°~40°不同离轴角度下的点源透射比值,从而得到地球表面反射光在像面产生的照度为5.5×10^-3w/m2,小于中心视场光线在像面照度的3.5%,满足系统抑制杂散光的要求。
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