利用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针测试，分析了采用离子束溅射刻蚀技术制作的石英微透镜陈列器的表面微观形貌，讨论了引起微透镜表面缺陷的原因及所采取的改善表面形貌的措施，研究了采用不同层次的光致抗蚀剂微透镜图形的固化技术后，经离子束溅射刻蚀制作出的微透镜陈列器件的表面形貌差异，定性给出了表面探针测试的适用范围，此外还介绍了对所制样品所做的几项主要的处理操作。

提出了一种新的曲率倒易法首次成功地在Si衬底上制作出64×256凹柱面折射微透镜阵列,扫描电子显微镜(SEM)显示微透镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵列,表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重复性好,其平均凹深为2.643μm,凹深非均匀性为8.45%,平均焦距为-47.08μm.