在应用林尼克结构干涉测量系统进行测量时,发现系统存在一个近似为二次曲面的测量误差。根据光学干涉系统的测量原理,分别对林尼克结构干涉测量系统的相移器误差、摄像机误差和光学系统误差进行了分析,确定光学系统误差是干涉测量系统的主要误差源,其中显微物镜焦点轴向误差是产生系统测量误差曲面的主要原因。以平面为实验测量样件,应用测量系统对参考光臂显微物镜的不同轴向位置进行了测量,通过分析测量结果验证了焦点轴向误差对系统测量误差的影响,并与理论结果进行了比较。

根据光学干涉显微法原理，设计开发了一套微纳结构表面形貌测量系统。该系统采用林尼克干涉显微镜，通过参考镜扫描的方法将扫描器与相移器集为一体，分别采用五步相移算法和基于采样定理的包络均方函数（SEST）算法实现相移干涉法（PSI）和垂直扫描干涉法（VSI）两种模式对微纳结构的表面形貌测量。为验证该系统性能，采用标准多刻线样板和标准台阶作为样件对VSI和PSI两种模式分别进行了测量实验。结果证明，该系统能够完成微纳结构表面形貌的快速精确测量，可以满足微电子、微机电系统中微纳结构的表面形貌测量要求。