用电化学方法消除4J32镜头组件的杂散光
研究了采用电化学方法消除精密光学系统4J32合金镜头组件中杂散光的实验。利用正交实验法在重铬酸盐体系中确定了主盐浓度,并研究了电压、电解液温度、时间等因素对镜头组件的消杂散光性能和消光膜层质量的影响,确定了最佳工艺为重铬酸钾:20g/L、硫酸锰:20g/L、硫酸铵:20g/L添加剂15g/L,温度:25~35℃,3V/min升压速率处理20~30min。经最佳工艺处理后,4J32合金呈黑色,反射率〈1.5%、耐蚀性为240s、膜层附着力为7.9N、尺寸变化〈0.8μm。结果表明,所得到的消光膜能够满足精密光学系统对零件尺寸精度及表面消光膜层的质量要求。
大尺寸反射镜高精度光学镜面Ni-P过渡层的制备方法
为了解决高精度光学系统中铝合金、铍反射镜易钝化、难加工的问题,采用自催化镍-磷合金作为过渡层后进行抛光的方法得到了高精度光学镜面.采用该方法所得到的镍-磷合金过渡层厚度为85gm,磷质量分数为11.88%,镀层显微硬度为730MPa镍-磷合金过渡层与反射镜结合牢固、耐蚀性较好,可通过±200℃热震试验及96h中性盐雾试验检测,适用于进行古典法抛光.经抛光后反射镜面形精度均方根值(RMS)为0.049λ(面形检测波长λ为0.6328μm),表面疵病等级为Ⅳ级,能够满足光学系统的要求.
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