为了制作平面变线密度光栅，满足线密度变化的要求，采用两个点光源和辅助透镜对基底曝光。编写了第一代和第二代光路的计算程序，计算出拍摄光路的几何位置参量，依据实际情况选择光路。提出了在线检测波前的方法，将辅助的标准光栅放在基底的位置上，入射光被标准光栅衍射，衍射光在光栅表面的干涉条纹反映了入射光的波前分布。采用数码相机和辅助镜拍摄干涉条纹，编写条纹分析程序，根据条纹调节元件的位置，直到入射波前满足要求后，对涂有光刻胶的基底曝光，制作出了原型的变线密度光栅。波前检测方法也可以用于其他全息光栅的制作中。