利用扫描电子显微镜（ＳＥＭ）和表面探针测试，分析了采用离子束溅射刻蚀技术制作的石英微透镜陈列器的表面微观形貌，讨论了引起微透镜表面缺陷的原因及所采取的改善表面形貌的措施，研究了采用不同层次的光致抗蚀剂微透镜图形的固化技术后，经离子束溅射刻蚀制作出的微透镜陈列器件的表面形貌差异，定性给出了表面探针测试的适用范围，此外还介绍了对所制样品所做的几项主要的处理操作。

采用全息离子束刻蚀和反应离子刻蚀相结合的新工艺,在熔石英基片上成功地刻蚀出200 l /mm、线空比46、槽深70 nm、刻划面积60×20 mm2的浅槽矩形Laminar光栅.对改进光栅线条粗糙度和线空比的方法进行了系统的研究.这一新工艺相对简单,降低了对干涉系统光学元件和全息曝光显影的严格要求.