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活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用

作者: 李广宇 王中一 陈琳 曹雪梅 王知源 雷明凯 来源:金属热处理 日期: 2023-06-06 人气:22
活性屏等离子体源渗氮技术原理及应用
活性屏等离子体源渗氮技术是一种先进的渗氮技术,消除了常规直流等离子体渗氮技术的固有缺陷,且可处理聚合物材料及表面附着氧化皮的金属材料。本文介绍了活性屏等离子体源渗氮技术传质机理的研究进展,在改性低合金钢、不锈钢、工具钢、聚合物材料以及抗菌功能材料等方面的最新结果,评述了活性屏等离子体源渗氮技术存在的问题和发展趋势。
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