变栅距衍射光栅(VLS)在像差校正等方面具有突出优点,采用不同的栅距变化规律的变栅距光栅具有不同的光谱特性,因而在众多的高技术领域获得了广泛应用.本文从VLS的像差校正原理出发,较全面地阐述了VLS在真空紫外和软X射线、高分辨率光电探测器、表面干涉计量以及光纤通讯等领域的应用,并针对其技术特点指出了它的发展趋势.

变栅距(VLS)衍射光栅具有自聚焦、像差校正等独特优点.VLS光栅要求的最小栅距变化量为亚纳米数量级,仅靠提高光栅刻划机的分度精度已很难实现,针对这一问题,提出了一种相位扫描方法用于光栅刻划机的变栅距分度控制,即通过对刻划机分度系统的干涉条纹进行微位移扫描来进行相位控制.实验结果表明,相位扫描方法达到了变栅距光栅所要求的亚纳米级的栅距变化精度.