光学薄膜，如各种增透膜、干涉滤光片、偏振膜、分光膜和近年来发展起来的激光膜，已成为各种光学仪器中不可缺少的部件。同时对光学膜的质量提出越来越高的要求。膜层的均匀性就是一个重要方面。从理论上讲为了获得均匀的光学薄膜要求蒸发源为一点源，而镀膜基体应当位于以点蒸发源为中心的球面上。然而蒸发源实际上有一定长度，基体又位于一个平面上。因此蒸发后得不到理想均匀的膜层。实践证明使基体做公转和自转是获得均匀膜层较理想的办法。