杂光分析是保证高光谱成像仪成像质量的关键技术之一。详细分析了高光谱成像仪光学系统的杂散光，设计了R—C前置镜的遮光罩和挡光环，并用Tracepro软件对高光谱成像仪光学系统进行了光机建模，分析了系统的一次、二次散射面，根据重要杂散光路径设置重点采用，计算出0．5°～40°不同离轴角度下的点源透射比值，从而得到地球表面反射光在像面产生的照度为5．5×10^-3w／m2，小于中心视场光线在像面照度的3．5％，满足系统抑制杂散光的要求。

分析了离轴三反射望远镜的杂散光特性，给出了遮光罩设计的基本原则并进行了初步的设计．根据系统所要探测到的极限星等，通过计算得到了望远镜光学系统的点源透射比所必需满足的条件；在Tracepro杂光分析软件中建模，在方位角为0°、45°、90°、135°和180°时分别对0．10～80°之间共15个离轴角度进行了光线追迹，通过计算得到了系统的PST曲线．结果表明，系统PST整体上是下降的且在离轴角30°以后接近指标要求，但在方位角0°和180°时，PST曲线在个别角度有突增的现象，通过光线追迹数据，得到了主要的杂光传输路径，提出了对遮光罩的修改方案并对其进行了修改．最后对改进后的系统重新进行了仿真分析．仿真结果表明，系统的杂光抑制能力达到了指标要求．

阐述了消杂光的遮光罩和挡光环的设计原理和思想，并基于自行推导的设计公式，提出利用程序计算来实现遮光罩一挡光环四种不同组合（圆柱状且挡光环等高布置、圆柱状且挡光环梯度布置、锥状且挡光环等高布置和锥状且挡光环梯度布置的遮光罩）的设计思想，并给出了设计实例以验证设计公式程序的正确性（与手工计算相比）。结果表明，在任意给定的挡光环个数和高度范围内，通过该设计程序可获得一系列遮光罩的长度和内径参数，再通过杂光仿真软件模拟，根据PST值可确定遮光罩的最佳参数。