在不同的环境氧压下用脉冲激光沉积方法在Si（111）衬底上生长了ZnO薄膜，以325nm He—Cd激光器为激发源获得了薄膜的荧光光谱以研究其发光特性，用X射线衍射仪（XRD）和原子力显微镜（AFM）研究了薄膜的晶体结构和表面形貌，结果表明氧压在20Pa和50Pa之间制备的ZnO薄膜具有良好的紫外发光特性和较好的晶体质量。分析了ZnO薄膜的发光机理，认为薄膜紫外峰源自自由激子复合发光，绿光峰的发光机制与锌位氧OZn关系密切，氧空位是蓝光发射的重要原因。