在扫描探针纳米加工技术的基础上,提出了利用原子力显微镜（AFM）来制作高频光栅的新工艺.利用AFM硅制探针,在接触模式下对光盘（聚碳酸酯材料）进行刻划试验.对刻划光栅的工艺参数进行优化,得到了纳米量级光栅.并将刻划所得光栅应用于数字云纹法,与数字参考栅干涉形成微/纳米数字云纹.实验结果表明,该法所制得的光栅可以应用于实际变形的测量.