杂光分析是保证高光谱成像仪成像质量的关键技术之一。详细分析了高光谱成像仪光学系统的杂散光，设计了R—C前置镜的遮光罩和挡光环，并用Tracepro软件对高光谱成像仪光学系统进行了光机建模，分析了系统的一次、二次散射面，根据重要杂散光路径设置重点采用，计算出0．5°～40°不同离轴角度下的点源透射比值，从而得到地球表面反射光在像面产生的照度为5．5×10^-3w／m2，小于中心视场光线在像面照度的3．5％，满足系统抑制杂散光的要求。

将光学系统设计与杂散光分析相结合,介绍了一种焦距2000 mm、F/#=10、2ω=1.66°的空间用R-C光学系统,系统像质优良,结构紧凑。同时,针对R-C系统的特点,考虑轴外渐晕的影响,计算了主、次镜内遮光罩的尺寸,给出外遮光罩的设计方法,对该R-C望远镜系统进行了遮光罩设计,并用光学软件进行杂散光分析,计算得到方位角为0°时的PST曲线。结果表明,当离轴角度大于太阳临界入射角时,PST值小于10-8量级,满足要求。