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> 去除模型
磁流变抛光技术及其质量控制的研究
作者:
李中会
杨建国
邱明君
来源:
工具技术
日期: 2024-11-19
人气:189
阐述了磁流变抛光原理,依据Preston方程分析了影响磁流变抛光效果的因素,根据实际加工的工件特点,对Preston方程进行了修正;在自制的磁流变抛光实验机上进行抛光加工试验,结果表明,采用修正的磁流变抛光材料去除方程,可以有效控制工件的抛光质量、提高抛光效率。
关键词:
磁流变抛光
磁流变液
去除模型
表面粗糙度
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