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低温面源黑体均温结构研究
作者:
王兆利
张洋洋
李薇
洪国同
来源:
真空与低温
日期: 2023-12-08
人气:3
低温面源黑体作为红外谱段的标准辐射源,广泛应用于红外遥感器、热像仪的标定中。随着红外技术的发展,其应用越来越广泛并已经开始向低温领域发展。温度均匀性是面源黑体的重要指标,介绍一种可以提高面源黑体温度均匀性的结构,实验结果表明这种结构可使面源黑体温度均匀性优于0.2K。
关键词:
均温结构
面源黑体
温度均匀性
脉冲管制冷机
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