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纳米VO2多晶材料的低温相变和随机阻抗网络模型
作者:
熊笔锋
马宏
来源:
半导体光电
日期: 2024-05-15
人气:4
制备了纳米VO2多晶薄膜材料,其相变温度为35℃,实验测量了它的电阻-温度(RT)曲线和热滞回线,并用随机阻抗网络模型进行了R-T曲线和热滞回线模拟,两者显示出结果一致,表明在低温相变温度35℃下,随机阻抗网络模型适用于纳米VO2多晶薄膜R-T曲线和热滞回线。此外,给出了VO2多晶材料在半导体区和金属区的简化随机阻抗网络模型的电阻公式。
关键词:
纳米VO2
热滞回线
随机阻抗网络模型
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