为了提高微驱动器的性能，提出了一种在氧化铟锡（ITO）玻璃上加工高深宽比SU-8微结构的方法．在导电玻璃的ITO层上涂覆一薄层AZ-4620正光胶，用常规的接触式曝光法，将光刻掩模上的二维图形转移到A二4620光胶层上，显影后利用ITO玻璃的导电性，在AZ-4620光胶曝光处电沉积镍，原掩膜图形可保真地转移到ITO玻璃表面的镍镀层上，使紫外光透过ITO玻璃基底进行反面曝光，从而保证了光刻掩模与SU-8光胶层间的完全接触，消除了厚光胶层表面不平在曝光时的散射和基片材料的反射影响，成功制备了深宽比为16、侧壁垂直度为89．5。的微结构．本方法使用设备简单，加工成本低．