依据化学机械抛光（Chemical Mechanical Polishing，CMP）加工玻璃光学元件的原理，通过对抛光运动机理的理论分析，提出了抛光垫的磨削均匀性对光学元件面形的影响，并设计了新的工艺流程．通过工艺试验，完成了高准确度玻璃光学元件的CMP加工，获得了表面质量N（0．2，Rq〈0．3nm的玻璃光学元件．